高精度双顺序注射进样系统
双顺序注射进样设计，样品、载流、还原剂平稳推进，实现高精度在线反应。
采用微升级取样精度和补偿技术，重复性优于0.05%。
高稳定性和准确性
具备漂移软校准功能、QCP质控功能，支持多标曲自动检测，提高测汞稳定性。
双注射系统去除还原剂气泡设计，减少气泡影响。
采用ARM + FPGA主控架构，核心部件独立MCU 控制，四核心协同运作。
高自动真智能简化您的工作
仪器自动配置标准曲线，高浓度样品自动稀释。
元素灯自动激发，智能识别，双道启辉。
专用夜间模式，支持仪器运行结束后休眠，以及定时自动唤醒并执行预热功能。
炉丝电流监测，自动判断炉丝工作状态。
可选双偏心自校正无极调节机构元素灯架，适配不同偏心量的各种元素灯。
可升级超大容量溢流自动监测废液桶，软件智能提醒。
软件界面自定义具备强大功能
软件实现全【quán】面自定义，功能窗口自由停靠。检测全流程界面监控，支持多道信号谱图实时显示。QCP质控功能，检测过程软校准，提高质控质量。提供向导式操作、审计追踪、用户【hù】权限管理、实时监控、自定义报告、样品信息自由复制粘贴与导入功能【néng】。
可升级模块
具备形态分析扩展功能。预留元素形态分析串口，可升级为形态分析仪，测量As、Hg、Se等元素的各种价态。
可选配160位或212位自动进样器，实现全自动分析
