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赋能“芯”未来 | 谱育科技携自主创新产品亮相第二十一届中国国际半导体博览会
聚光 发布时间：2024-12-19 聚光 来源：微信公众号 聚光 浏览量：2991



12-19至20日，第二十一届中国国际半导体博览会（IC CHINA 2024）在北京·国家会议中心盛大召开。


作为中国半导体行业协会主办的唯一展览会，本届展会以 “创芯使命・聚势未来” 为主题，聚焦半导体产业链、供应链和超大规模应用市场，全面呈现半导体行业发展趋向与技术创新成果，汇聚全球行业资【zī】源。

来自半导体材料、设备、设计、制造、封测和下游应用等全产业链环节的550余家企业参展，涵盖众多国内外半导体龙头企业。来自美国、日本、韩国、马来西亚、巴西等国家的半导【dǎo】体行业组织【zhī】也分享了当地的产业动态，并与中方代表展开深度交流。

聚光科技自主孵化子公司谱育科技应邀参展，携EXPEC 7350系列三重四极杆电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS/MS）、GDM-2100 Series半导体气体探测器等多款半导体领域的自主创新产品精彩亮相。展会现场，谱育科技通过实物展示与技术讲解，生动诠释了产品的核心技术优势及广泛应用，吸引了众多专家【jiā】、客户【hù】、媒体及同行驻足交流。


面对半导体行业日益增长的检测需求，聚光科技及谱育科技依托二十余年在质谱、光谱、色谱等前沿【yán】技术领域的深厚积累【lèi】，积极推出高度定制化、系统自动化的半导体行业专用创新产品与解决方案，在半导体制程金属污染检测、半导体电子特气泄漏检测、洁净室气态分子污染物【wù】监测等应用领【lǐng】域，帮助【zhù】客户提升生产效率和产品质量，同时为国产科学仪器在高端检测领域的创新发展注入强劲动力。


半导体制程金属离子检测
EXPEC 7350系列三重四极杆电感耦合等离子体质谱仪

作为“国家重大科学仪器设备开发专项”的重要成果，聚光科技自2013年发布首台单四极杆ICP-MS以来，持续推动技术升级，成功掌握了多个质谱分析技术平台，实现了高端质谱“国产替代”规模化与产业化。截至目前，7000系列ICP-MS累计下线超1000套，标志着质谱仪器在国产替代进程中取得了里程碑式突破。



EXPEC 7350系列三重四极杆电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS/MS）是公司基于十余年技术积累推出的重磅产品，专为半导体行业痕量元素分析量身打造，已获国际半导体协会SEMI S2认证。

EXPEC 7350系列采用创新的MS/MS模式，有效提升干扰消除能力。结合三重四极杆设计、高速动态碰撞反应池、直角离子透镜、垂直等离子体等多项核心技术，产品在检测灵敏度和稳定性上表现卓【zhuó】越，广泛应用于超纯湿电子化学品、电子特气及碳化硅片等领域，尤其在金属离子【zǐ】痕量分析方面提供了可靠的解决方案。


完整的半导体分析配套：百级超净实验室

芯片制【zhì】造对环境和检测设备要求极为严苛，任何【hé】颗粒或杂质污染都可能导致元件失效，造成巨大损失。谱育科技针对半导体行业组建专业团队，配备百级超净实验室，研发出EXPEC 7350系列整体解决方案。该系统可实现~0.1ppt级别的【de】痕量元素检测能力，可满足Grade 5级别及以上超高纯试剂中杂质【zhì】检测需求，性能指标达国际先进水平。通过针对超净环境的精准监控及高纯材料的质量检测，为国产半导体行业的稳定生产与技术突破提供了强有力的技术支撑。


半导体行业应用领域

  • 硅、碳化硅、氮化镓等晶圆的表面金属及体金属的多元素杂质的快速检测；
  • 半导体实验室分析以及生产制程中高纯度湿电子化学品杂质元素检测；
  • 光刻胶及其相关溶剂中超痕量杂质元素快速检测；
  • 高纯铜、铝、钛、钽、钼等高纯溅射靶材中70种以上超痕量杂质元素快速检测；
  • 高纯三甲基铝、四氯化钛等复杂基质前驱体中超痕量杂质元素快速检测；
  • 高纯单晶硅、多晶硅表面金属杂质和体金属杂质元素快速检测；
  • 高纯电子特气中超痕量杂质元素快速检测。

典型应用案例：EXPEC 7350系列三重四极杆电感耦合等离子体质谱仪 助力半导体企业高效控制金属污染

EXPEC 7350 系列已成功应用于多家大型半导体企业。其中一家专【zhuān】注于宽禁带半导体材料（如碳化硅和氮化镓）的研发与晶片制造，对痕量金属污染的检测精度和【hé】干扰控制有着严格的要求。EXPEC 7350 系列用于该企业衬底抛光片、外延【yán】片及高纯试剂中的痕量金属杂质检测。


EXPEC 7350系列凭借垂直炬管设计和MS/MS模式，能够高效应对高基质样品的多原子离子干扰，提供高灵敏度和精准的分析结果。设备安装调试后，其检出限【xiàn】、稳定性、氧化物产【chǎn】率等性能指标全部通过验收。经过半年使用，设【shè】备表现稳定，客户对其性能及谱育科技的售后服务给予高度认可。


半导体电子特气泄漏检测
GDM-2100 Series半导体气体探测器

GDM-2100 Series半导体气体探测器凭借先进智能传感器技【jì】术，可精准侦测40多种半导体特气，如硅烷、磷烷、三氟化氮等，广泛适用于半导体制造、光伏电池生产及实验室等高要求【qiú】场景。

设备采用通用化设计，兼【jiān】容多种检测原理，降低购置成本并提升适配性。内置核心处理器支持离线校准，即插即用，显著简化维护流程。多样化供电与通讯方式，如24V直流供电和POE HUB供电，便于实时监控。彩色TFT显示结合高亮LED和自定义显示区域，信息直观清晰，提升用户【hù】体验的同时优化安全与生产效率。
典型应用案例：GDM-2100 Series半导体用气体探测器护航12英寸集成电路生产线安全运行

在国内某12英寸集成电路生产线建设项目中，GDM-2100 Series半导体气体探测器发挥着重要作用，助力芯片工【gōng】厂实现气体泄漏精准侦测与智能预警，全面保障生产线的安全稳定运行。


该项目中，谱育科技提【tí】供了基于多种检测技术原理的高性能气体传感器，包括电化学（EC）和非分散红外（NDIR）等技术，共选【xuǎn】用了30多种不同气体类型的气体探测器，覆盖芯片制造全过程中的有毒有害气体监测需求。

这些气体探测器以其高灵敏【mǐn】度和稳定性，能够实时监测气体浓度，快速响应泄漏事件，为【wéi】工厂构建全方位、多层次的气体安全防护网。



洁净室气态分子污染物监测 
AMC 1000微污染气体监测系统

AMC 1000微污染气体监测系统通过分布式多点采样器，可搭配国产先进分析仪器【qì】，实现对半导体洁净室酸类（MA）、碱类（MB）、可凝聚物（MC）及挥发性有机物等的ppb级高精度监【jiān】测，打破国外技术垄断。

AMC 1000微污染气体监测系统中的气体分析系统采用多种国产高端分析仪器，集成国标认可的先进技术，包括GC-MS、CRDS、紫外荧光、化学发光、GC-PID/FID和紫外吸收法等，可根据企业需求灵活【huó】定制，满足多样化监测需求【qiú】。

AMC 1000微污染气体监测系统检出限低至0.1ppb，采样管路覆盖范围达200m，支持网格化分析，实现厂区环境实时监控。特殊处理管路【lù】有效避免样品吸附与挥发，结合独特反吹功能和超标【biāo】自动留样至苏玛罐验证，确保数据真实可靠。模块化设计支持定制化开发，满足半导体洁净室及厂区痕量气体检测多样化需求，为高效生产与环境安全保驾护航。


AMC 1000辅助方案：移动推车式AMC监测系统

移动推车式AMC监测系统可搭配不同的分析仪或校准仪，实现半导体洁净室AMC微污染气体的移动监测。推车内部搭载大容量电池组，可长时间脱离市电独立运行，及时检测排查洁净室潜在或已有的污染源，可定制触屏式工控机查看实时监测数据与历史数据。


典型应用案例：AMC 1000微污染气体监测系统——助力晶圆厂环境监测与生产优化

国内领先的12英寸晶圆厂采用谱育科技AMC 1000微污【wū】染气体监测系统，实时监测洁净室气【qì】态分子污染物。该系统通过分布式多点采样器实现连续多点在线监测，并支持移动推车式灵活操作，实现了对酸类（MA）、碱【jiǎn】类（MB）、可凝聚物（MC）、挥发性有机物等ppb级别的精准监测，实时反映污染物浓度变化【huà】，为洁净室环境管理和生产优化提供了精准可靠的数据支持。


AMC 1000微污染气体监测系统显著提升了生产良【liáng】率，降低设备损耗，同时优化运营成本。通过全面保障晶圆制造环【huán】境的稳定性，该系统为企业生产提供了高效可靠的技术保障。


聚光科技始终坚持自主创新，持续加大研发投【tóu】入，专注于【yú】攻克技术瓶颈、突破性能极限，为半导体行业提【tí】供更高效、更精准的解决方案，助力客户应对复杂挑战、实现生产优化。聚光科技将以技术深度赋能行业发展，以应用广度拓展市场空间，全面提升国产高【gāo】端科学仪器在高端检测领域的核心竞争力，为半导体行业高质量发展注入强劲动能，为建设科技强国、加快实现高水平科技自立自强贡献力量。





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